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　　等離子清洗機是將物質(zhì)從低能聚集態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)楦吣芫奂瘧B(tài)。它將從外部提供能量（如加熱、電場、輻射等）。當固體轉(zhuǎn)化為液體或液體轉(zhuǎn)化為氣體時，每個粒子需要0.01ev（1eV=1.6022×10-19焦耳）的能量。當氣體進一步吸收外界能量時，分子的熱運動進一步加強，分子離解成原子，原子中的電子獲得足夠的能量脫離電子而成為自由電子。

　　氣體被電離，被電離的氣體中含有大量的電子、離子以及部分中性粒子（原子和分子），其中電子和離子的電荷數(shù)差不多相等，宏觀上或平均意義上它是電中性的。

　　本產(chǎn)品一般可分為常壓（常壓）等離子清洗設(shè)備和真空（低壓）等離子清洗設(shè)備。前者是在開放空間或半封閉狀態(tài)下的大氣放電，后者是在全封閉空間中的低壓輝光。從微觀分析來看，無論是哪種形式，等離子體的形成過程基本相同

　　等離子清洗機主要依靠等離子體中活性粒子的“活化”來去除物體表面的污漬。就反應(yīng)機理而言，等離子體清洗通常包括以下幾個過程：無機氣體被激發(fā)成等離子體態(tài)；氣相物質(zhì)吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面的分子發(fā)生反應(yīng)，形成產(chǎn)物分子；無機氣體被激發(fā)成等離子體態(tài)；氣相物質(zhì)吸附在固體表面，吸附基團與固體表面分子反應(yīng)形成產(chǎn)物分子；

　　對產(chǎn)物分子進行分析，形成氣相；反應(yīng)殘渣與表面分離。等離子清洗設(shè)備的特點是它可以處理金屬，半導(dǎo)體，氧化物和大多數(shù)聚合物材料，如聚丙烯，聚酯，聚酰亞胺，聚氯乙烯，環(huán)氧樹脂，甚至聚四氟乙烯，無論是何種類型的基板處理。它還可以清洗整個、局部和復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。

　　等離子清洗機中產(chǎn)生等離子體的裝置是將兩個電極放置在密封容器中形成電場，利用真空泵達到一定的真空度。隨著氣體越來越稀薄，分子之間的距離和分子或離子的自由運動距離也越來越長。在正負電場的作用下，它們碰撞形成等離子體。這些離子有足夠的活性和能量來破壞幾乎所有的化學鍵，并在任何暴露的表面上引起化學反應(yīng)。